用饱和苦味酸溶液腐蚀显示奥氏体晶界,通过奥氏体晶界腐蚀沟槽深度估算出杂质磷在奥氏体晶界的平衡偏聚浓度,它和淬火加热温度之间的关系符合Mclean的平衡偏聚理论。
互联网摘选
The selective etching of the evaporated or squeezed layers is a critical step in preserving yield.
蒸发层和溅射层的选择刻蚀是保证成品的关键步骤.
词典精选例句
用饱和苦味酸溶液腐蚀显示奥氏体晶界,通过奥氏体晶界腐蚀沟槽深度估算出杂质磷在奥氏体晶界的平衡偏聚浓度,它和淬火加热温度之间的关系符合Mclean的平衡偏聚理论。
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The selective etching of the evaporated or squeezed layers is a critical step in preserving yield.
蒸发层和溅射层的选择刻蚀是保证成品的关键步骤.
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