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在pSi(100)基体上用热丝CVD法沉积了球形金刚石薄膜。
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利用负衬底偏压增强热灯丝化学气相沉积系统制备了碳纳米管.
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A Technical Design and Experiment of the Chemical Vapor Deposition of AIN Film
化学气相淀积法合成氮化铝薄膜及其工艺设计
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Carbon nanotubes in experiments were synthesized by hot filament chemical vapor deposition.
所用的碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法合成的.
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SWCNTs的 制备方法很多,包括电弧放电法 、 激光蒸发法、化学气相沉积法 ( ChemicalVapor Deposition,CVD ) 等.
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模拟浮法在线镀膜玻璃生产工艺,采用常压化学气相沉积(APCVD)技术以硅烷(SiH4)为主要原料气体在移动的玻璃基板上制备硅薄膜。
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报道了利用低压金属有机物化学气相沉积技术生长纳米ZnS薄膜,然后,将ZnS薄膜在氧气中于800℃温度下进行热氧化制备高质量纳米ZnO薄膜。
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用常压金属化学气相沉积法(MOCVD)在Si(111)衬底上制备了马赛克结构ZnO单晶薄膜。
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电感耦合等离子体CVD室温制备的硅薄膜的结构研究
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Polycrystalline diamond coatings for tools are laid down using chemical vapor deposition.
工具用的复晶钻石涂层,则是使用化学气相沉积法制造的.
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而利用磁控溅射、热蒸镀、电化学沉积等方法制备的连续或者非连续金属膜衬底在表面增强荧光效应中也得到了广泛的应用。
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在覆盖金属钛层的陶瓷上,利用微波等离子体化学气相沉积 ( MPCVD ) 法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜.
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为快速沉积高品质金刚石膜,建立了热阴极等离子体化学气相沉积方法.
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超高真空化学气相淀积法生长的n-Si/i-p~+-i SiGe/n-Si结构的透射电镜和二次离子质谱分析
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所采用的活化方法为空气活化和二氧化碳活化法.沉积方法为苯沉积.
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以镍片为基板材料,利用微波等离子体化学气相沉积法在低温条件下合成了纳米碳管膜.
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器件制作的工艺流程中本文重点研究了基于半导体技术的二氧化硅薄膜 沉积技术.
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Ultrathin organosilicon films were synthesized by chemical vapor deposition.
用化学气相沉积方法制备了超薄有机硅膜.
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以乙炔为原料气,采用Ni粉为催化剂,在923K下,由化学气相沉积法 ( CVD ) 制得了碳纳米管.
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等离子气相淀积工艺(PCVD),合成SFP'α-Fe2O3,用作气敏材料。
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介绍了采用浮动催化剂法,利用乙醇化学气相沉积法制备多壁碳纳米管。
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介绍了采用浮动催化剂法,利用乙醇化学气相沉积法制备多壁碳纳米管.
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Preferably, the metal thin-film layer is an aluminum foil or aluminum vapor deposition layer.
所述金属薄膜层优选为铝箔或铝蒸镀层.
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The carbon nanotubes were synthesized by the heat filament chemical vapor deposition.
研究所用的碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法合成的.
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MOCVD法ZnO薄膜生长及其紫外探测器的制备与初步研究
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A chemical vapor deposition process that takes place at moderate temperatures.
一种化学汽相淀积过程,发生在适度的温度下.
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采用等离子体溅射方法制备了Cr金属薄膜式温度传感器。
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