附加电极半径对空心圆管端点附近离子注入剂量的影响
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Numerical simulation of collisional sheath evolution in plasma source ion implantation
等离子体源离子注入鞘层时空演化的研究
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in this paper, a helicon plasma source has been introduced the first time in china;
本文介绍了一种玻璃系统的螺旋波等离子体的发生装置,这在国内尚属首次。
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ZrN thin films were prepared on 45 # steel by using ECR-microwave plasma source enhanced deposition.
利用ECR - 微波等离子溅射沉积技术不同偏压下在45 # 钢基体上制备了ZrN薄膜.
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TiN coating for inner surface modification by grid enhanced plasma source ion implantation
内表面栅极等离子体源离子注入TiN薄膜及其特性研究
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Discharge Characteristics of Slot Antenna Plasma Source in Broad Pressure Range
宽气压范围内裂缝天线等离子体特性研究
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为了探讨电感耦合等离子体光源的原子化和激发机理,测定了不同激光输出能量条件下光源的激发温度和电子密度。
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线性ECR微波等离子体源由微波源、同轴线波导、接地栅网电极和真空室外磁场线圈构成。
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thirdly, dissociating the plasma source under the normal pressure to form plasma;
然后,于常压下解离电浆源形成电浆;
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建立了ECR微波等离子体源离子输运的平板和圆柱模型,对离子历经的空间区域的输运过程进行了数值研究。
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Atmospheric pressure non-thermal plasma source and its application in textile processing
常压非热等离子体源及其在纺织整理中的应用
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由于样品以气溶胶的形式通过最中间同心管引入频率为27MHz的等离子光源,出现趋肤效应。
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从进样系统、离子源、质量分析器、离子检测器和辅助系统5个方面综述了电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)仪器的进展,并简要介绍了ICP-MS在烟草元素分析中的应用。
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最后描述了利用高离子电流密度等离子体镀膜的光学薄膜。
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以高频等离子体(HFP)为高能、纯净热源,采用高温离解&气相冷凝沉积新工艺制备出亚微米级ZrO2及纳米级ZnO等超细粉体材料。
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利用等离子体火炬为高温热源,研究了混杂C/C复合材料的烧蚀性能。
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A Novel Pulse Plasma Light Source for CTCP Technology in Printing Industry
一种用于CTCP技术的新型脉冲等离子体光源
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