1、

Reactive ion etching of polysilicon using SF6+ Ar reactive gas is investigated.

本文对以SF6+A r为反应气体的反应离子刻蚀(RIE)多晶硅工艺进行了研究。

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2、

In Situ Monitoring of Etching End Point for Plasma and Reactive ion Etching by the Optical Reflection

等离子与反应离子刻蚀终点的在线监测&光学反射法

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3、

Effect of Gas Species on the Depth Reduction in Silicon Deep-Submicron Trench Reactive Ion Etching

在硅深-亚微米沟道反应离子刻蚀中气体成分对深度减小的影响

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4、

Reactive Ion Etching of Silicon for Trench Isolation

深槽隔离技术中硅的反应离子刻蚀

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5、

Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab

硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀

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Reactive Ion Etching of Deep U Trench

深U型槽的反应离子刻蚀技术

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7、

Deep Reactive Ion Etching ( DRIE) Device in the MEMS Fabrications

用于MEMS器件制造的深反应离子刻蚀设备

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8、

The development of soft X-ray CZP included design of optical path, selection of material, preparation of thin film, sub-micron lithography, X-ray lithography, reactive ion etching, ion beam etching, electroplating and chemical etching.

软X射线聚焦波带片的研制包括光路设计、膜系设计、衬底选择、薄膜制备、亚微米光刻、X射线光刻、反应离子刻蚀、离子束刻蚀、电镀和化学腐蚀等多种微细加工技术。

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9、

A Reactive Ion Etching Rate Model for VLSI Process Simulation

一种用于VLSI工艺模拟的反应离子刻蚀速率模型

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Study on Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching of BST Thin Films

BST薄膜的磁增强反应离子刻蚀研究

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Study on Anisotropic Etching in Reactive Ion Etching of PMMA

反应离子刻蚀PMMA的各向异性刻蚀研究

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12、

Reactive Ion Etching of SiO_2 in Planar Lightwave Circuit Fabrication

SiO2平面光波导工艺中的反应离子刻蚀研究

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Investigation on Reactive Ion Beam Etching of SiO_2 and Si

反应离子束刻蚀二氧化硅和硅研究

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Research on Ar/ CHF_3 Reactive Ion Beam Etching of SiO_2

Ar/CHF3反应离子束刻蚀SiO2的研究

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15、

Reactive Ion Beam Etching and Thermal Effect

反应离子束蚀刻中温度效应的研究

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Reactive ion beam etching for diffractive optical elements

衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究

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17、

Technology of reactive ion beam etching of blazed gratings

反应离子束刻蚀闪耀光栅技术

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Reactive Ion Beam Etching Applied to Photoresist Ashing

反应离子束刻蚀应用于光刻胶灰化技术研究

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19、

Reactive Ion Beam Etching Machine, RIBE-5

RIBE-5型反应离子束刻蚀机

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The results on fabrication of refractive microlens arrays using heat forming and reactive ion beam etching ( RIBE) techniques are presented.

提出一种微透镜阵列复制的新方法反应离子束蚀刻法(RIBE)。

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