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For the purpose of improving the coloring effect, the polishing technique is studied as a key step.
为改善着色效果，研究采用正交试验法，对铜锌合金着色前处理工艺的关键工序&抛光工艺进行了研究。
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The Chemical mechanical polishing technique in the field of semiconductor industry was introduced.
介绍了半导体工业中蓬勃发展的化学机械抛光(CMP)技术.
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本文提出了一种新的CVD金刚石膜抛光技术。采用该项技术，可以高效率的完成CVD金刚石膜的粗抛光。
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This Paper Presents the teChnique of iceland spar Polishing and the measured results
本文介绍了冰洲石晶体的抛光技术及其测试结果
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提出了用于改善抛光平行度的偏心分布载荷技术.
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气囊抛光技术是一种新型的超精密加工技术，特别适用于自由曲面的加工。
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