通过改变等离子清洗工艺参数、沉积负偏压和打底层,优化类石墨镀层在铝合金基体上的性能。
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1利用膜层厚度与激光透过率的关系,分析等离子体清洗对sol-gel膜层厚度的影响。
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陈述了密封剥离试验、芯片和密封剂拉力试验、焊线拉力试验和C-模式SAM(C-SAM)检查的结果,证明了最佳的等离子清洗工艺会增强PBGA封装的定性等级,并提高工艺效率和生产率。
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为了释放因晶格失配产生的应力,以降低在GaN外延膜中引起的缺陷密度,我们对蓝宝石衬底采用了氢等离子体清洗、氮等离子体氮化以及低温生长缓冲层的方法。
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The Principle and Methods of Cleaning Noxious and Corrosive Gases in Plasma Etching Process
等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法
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采用自清洗旋转式黏度计检测高血压患者全血黏度(高、低切)、血浆比黏度、红细胞压积、全血还原黏度和K值方程。
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study on air cleaning technology of nanometer tio_2 catalysis under plasma discharge
纳米TiO2等离子体放电催化空气净化技术的研究
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大气压射频辉光放电冷等离子体由于摆脱了真空腔的限制,在等离子体辅助刻蚀、灰化、薄膜沉积、材料表面清洗、消毒灭菌、战地生化等领域有着非常广阔的应用前景。
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