• 2026年07月13日 22:59:34
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1、

The dual gate oxide ( DGO) technology has been widely used in high-voltage CMOS process, it can integrate both thick gate oxide device and thin gate oxide device in a same chip.

双栅氧工艺（dual gate oxide）在高压CMOS流程中得到了广泛的应用，此项工艺可以把薄栅氧器件和厚栅氧器件集成在同一个芯片上。

互联网摘选

2、

A novel dual gate oxide ( DGO) process is proposed to improve the performance of high voltage CMOS ( HVCMOS) devices and the compatibility between thick gate oxide devices and thin gate oxide devices.

提出了一种新的双栅氧（dual gate oxide，DGO）工艺，有效提高了薄栅氧器件与厚栅氧器件的工艺兼容性，同时提高了高低压器件性能的稳定性。

互联网摘选

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